多功能三靶磁控濺射鍍膜裝置。

背景技術：

2.磁控濺射設備是一種常見的物**相沉積設備，已經成功應用于各種薄膜的制備工藝。大部分傳統(tǒng)的磁控濺射設備只包含一個濺射靶，工作時腔體內只能安裝一種濺射把材料，若要用這樣的設備沉積不同種薄膜材料，則需要打開主腔體，對靶材進行拆除與安裝，不僅效率低下，同時也很難獲得穩(wěn)定的生長工藝。這種設備只能滿足長期濺射一種薄膜材料的需求，不利于制備復合膜；傳統(tǒng)的磁控濺射設備中的基片架僅能對基片進行加熱，不能同時旋轉，這樣在膜層沉積的過程中會導致基片加熱不均勻，影響鍍膜質量；因基片與靶材之間的距離是固定的，如此鍍膜的沉積效率較低。

技術實現要素：

3.本實用新型的目的是為了解決上述背景技術中的問題，而提出的一種多功能三靶磁控濺射鍍膜裝置。
4.為了實現上述目的，本實用新型采用了如下技術方案：
5.一種多功能三靶磁控濺射鍍膜裝置，包括真空鍍膜室，所述真空鍍膜室內轉動安裝有三個呈環(huán)形均勻分布的偏轉桿，所述偏轉桿的一端固定安裝有磁控靶，所述偏轉桿與真空鍍膜室之間安裝有角度調控組件，所述真空鍍膜室內設有基片架，所述基片架內部設有加熱器，且基片架位于磁控靶上方設置，所述基片架與真空鍍膜室之間安裝有旋轉升降機構。
6.所述旋轉升降機構包括轉動安裝在真空鍍膜室頂部中心處的轉筒，所述轉筒內活動插設有螺紋桿，且螺紋桿的底端與基片架相連接，所述轉筒的內筒壁上對稱開設有滑槽，且螺紋桿的桿壁上對稱安裝有與滑槽相對應的滑塊，所述轉筒的頂部沿邊轉動安裝有與螺紋桿螺紋套接的螺紋套筒，所述螺紋套筒與真空鍍膜室之間安裝有驅動組件。
7.所述驅動組件包括驅動電機，所述驅動電機與真空鍍膜室頂部之間安裝有l(wèi)型支撐架，且驅動電機的輸出軸上固定套接有主動齒輪，所述轉筒的外筒壁上固定套接有與主動齒輪相嚙合的從動齒輪。
8.所述角度調控組件包括轉動安裝在真空鍍膜室內部下表面中心處的傳動桿，所述傳動桿的頂端同軸連接有絲桿，所述絲桿上套接有匹配的螺母，所述螺母的外側壁上鉸接有三個呈環(huán)形均勻分布的連桿，所述連桿的另一端與對應的偏轉桿相鉸接，所述真空鍍膜室的側壁上轉動安裝有轉桿，所述轉桿的一端安裝有主動錐齒輪，所述傳動桿上固定套接有與主動錐齒輪相嚙合的從動錐齒輪。
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